จีนเริ่มผลิตเครื่องผลิตชิป immersion DUV จำนวนมากเพื่อลดการพึ่งพาเทคโนโลยีตะวันตก

บริษัทที่รัฐบาลจีนสนับสนุนในเซี่ยงไฮ้ได้เริ่มกระบวนการผลิตจำนวนมาก (mass production) สำหรับเครื่องลิโทกราฟีชนิด immersion DUV ซึ่งเป็นเทคโนโลยีขั้นสูงในการผลิตชิป โดยมีกำหนดการส่งมอบเครื่องชุดแรกภายในปีนี้ให้แก่บริษัท SMIC, Hua Hong Semiconductor และ CXMT

การพัฒนาครั้งนี้เป็นความร่วมมือที่ดึงทีมงานจากหลายบริษัทในจีน ซึ่งรวมถึงบริษัทสตาร์ทอัพของรัฐอย่าง Shanghai Yuliangsheng Technology โดย SMIC ได้เริ่มทดสอบเครื่องมือดังกล่าวมาตั้งแต่เดือนกันยายนเพื่อเตรียมพร้อมสำหรับสายการผลิตในอนาคต

โครงการนี้มีเป้าหมายผลิตเครื่องจักรเพิ่มขึ้นเป็น 5 เครื่องในปี 2026 และประมาณ 20 เครื่องในปี 2027 เพื่อแก้ปัญหาการถูกปิดกั้นการเข้าถึงเทคโนโลยีจาก ASML ของเนเธอร์แลนด์ ตามกฎหมายควบคุมการส่งออกของสหรัฐฯ ที่มีความเข้มงวดมากขึ้นเรื่อยๆ

แม้ว่าชิ้นส่วนสำคัญส่วนใหญ่จะถูกผลิตภายในจีนเอง แต่ยังมีชิ้นส่วนวิกฤตบางอย่างที่ต้องนำเข้าจากประเทศญี่ปุ่น ซึ่งส่งผลให้การผลิตได้รับความล่าช้าไปบ้างในช่วงที่ผ่านมาจากการจัดหาชิ้นส่วนในระดับท้องถิ่นที่ยังไม่ราบรื่นนัก

ผู้เชี่ยวชาญมองว่าแม้จีนจะเริ่มผลิตได้เอง แต่ประสิทธิภาพและคุณภาพงานก่อสร้างยังคงตามหลัง ASML อยู่มาก โดยเครื่อง DUV นี้สามารถผลิตชิประดับ 28 นาโนเมตรได้ในการฉายแสงครั้งเดียว และอาจดันไปถึงระดับ 7 นาโนเมตรผ่านเทคนิค multipatterning ซึ่งยังคงต้องใช้ระยะเวลาในการพิสูจน์มาตรฐานก่อนใช้งานจริงคงทน