Gigaphoton เปิดตัวระบบรีไซเคิลก๊าซนีออนสำหรับเลเซอร์ ArF

Gigaphoton ผู้ผลิตอุปกรณ์ลิโทกราฟีจากญี่ปุ่นได้พัฒนาระบบรีไซเคิลก๊าซนีออนชื่อ hTGM สำหรับเลเซอร์ Argon Fluoride (ArF) excimer โดยระบบนี้มีอัตราการรีไซเคิลอยู่ที่ 50% และมีศักยภาพที่จะพัฒนาให้สูงขึ้นได้ในอนาคต เทคโนโลยีนี้จะช่วยลดผลกระทบจากการขาดแคลนก๊าซนีออนในห่วงโซ่อุปทานโลก ซึ่งได้รับผลกระทบอย่างหนักจากการรุกรานยูเครนของรัสเซียตั้งแต่ปี 2022

การผลิตเซมิคอนดักเตอร์โดยเฉพาะในกระบวนการ Deep Ultraviolet (DUV) ใช้ก๊าซนีออนมากถึง 70% ของความต้องการทั่วโลก ซึ่งก่อนหน้านี้ยูเครนเป็นผู้ส่งออกก๊าซนีออนสูงถึง 50% ของตลาดโลก การพัฒนาระบบรีไซเคิลนี้จะช่วยลดค่าใช้จ่ายด้านวัสดุและลดความเสี่ยงจากการพึ่งพาซัพพลายเชนในต่างประเทศ โดยเฉพาะในอุตสาหกรรมการผลิตหน่วยความจำที่เริ่มนำระบบนี้ไปใช้แล้ว

อย่างไรก็ตาม Gigaphoton ไม่ใช่รายเดียวที่พัฒนาเทคโนโลยีนี้ เนื่องจากบริษัท Kanken Techno ได้เปิดตัวระบบที่อ้างว่าสามารถรีไซเคิลได้สูงกว่า 90% มาก่อนหน้า ในขณะที่ผู้ผลิตรายใหญ่อย่าง Samsung และ SK Hynix ก็เริ่มติดตั้งระบบรีไซเคิลนีออนในโรงงานของตนเองในปี 2024 เพื่อสร้างความมั่นคงในกระบวนการผลิตชิป

ในอนาคตความต้องการก๊าซนีออนอาจลดลงเนื่องจากการเปลี่ยนผ่านไปสู่เทคโนโลยี Extreme Ultraviolet (EUV) ที่ไม่ใช้นีออน รวมถึงการพัฒนาเลเซอร์แบบ Solid-state และเทคโนโลยี Nanoimprint lithography ที่เป็นทางเลือกใหม่ แต่ในช่วงเปลี่ยนผ่านนี้ ระบบรีไซเคิลยังคงเป็นกุญแจสำคัญในการรักษาขีดความสามารถด้านการแข่งขันและการป้องกันประเทศเชิงยุทธศาสตร์