สตาร์ทอัพจีนโชว์ต้นแบบแหล่งกำเนิดแสง EUV ตั้งเป้าพาณิชย์ใน 3-5 ปี

Langdao Silex สตาร์ทอัพสัญชาติจีนที่ก่อตั้งโดยศิษย์เก่าจากมหาวิทยาลัย Tsinghua ได้นำต้นแบบแหล่งกำเนิดแสง Extreme Ultraviolet (EUV) รุ่น FlintNano LPP-OXXO มาจัดแสดงในงาน China International Industry Fair ที่เซี่ยงไฮ้ โดยใช้เทคโนโลยี Laser-produced plasma (LPP) ในการผลิตรังสี EUV ผ่านการยิงเลเซอร์ใส่หยดโลหะ

ระบบดังกล่าวมีกำลังขับสูงกว่า 15W และใช้ส่วนประกอบภายในประเทศจีนถึง 90% โดยสามารถทำงานต่อเนื่องได้นานกว่า 100 ชั่วโมง อย่างไรก็ตาม กำลังการผลิตระดับ 15W นี้ยังถือว่าต่ำมากเมื่อเทียบกับเครื่องของ ASML ในปัจจุบันที่ใช้กำลังไฟ 250W ขึ้นไปสำหรับการผลิตชิปปริมาณมาก และยังไม่มีการยืนยันว่าการวัดค่า 15W นั้นวัดจากจุดใดของระบบ

แม้การพัฒนานี้จะเป็นก้าวสำคัญสำหรับจีนในการลดการพึ่งพาเทคโนโลยีจากต่างประเทศท่ามกลางข้อจำกัดในการซื้อเครื่อง ASML แต่ผู้เชี่ยวชาญชี้ว่าแหล่งกำเนิดแสงเป็นเพียงส่วนประกอบเดียวเท่านั้น การสร้างเครื่อง EUV scanner ที่สมบูรณ์ยังต้องอาศัยความก้าวหน้าในด้านเลนส์รวมแสง กระจกสะท้อนความแม่นยำสูง และระบบ Supply Chain ที่ซับซ้อนอีกมหาศาล

ในปัจจุบันเทคโนโลยีของ Langdao Silex ยังอยู่ในระดับที่เหมาะสำหรับการทดลองสารไวแสง (Photoresist) หรือการตรวจสอบหน้ากากวงจรเท่านั้น โดยคาดว่าต้องใช้เวลาอีกอย่างน้อย 3 ถึง 5 ปีในการพัฒนาสู่ระดับเชิงพาณิชย์ และอาจต้องใช้เวลานานกว่านั้นมากหากจะพัฒนาให้ทัดเทียมกับมาตรฐานอุตสาหกรรมโลก