Nvidia มั่นใจจีนจะพัฒนาเครื่องจักรผลิตชิปขั้นสูงได้เองภายในปี 2030

Jensen Huang ซีอีโอของ Nvidia ได้ให้สัมภาษณ์แสดงความเชื่อมั่นว่า จีนจะสามารถพัฒนาเครื่องจักรที่ใช้ในกระบวนการผลิตชิป (Lithography Tools) ของตนเองได้สำเร็จภายในปี 2030 โดยเขามองว่าระยะเวลาเพียง 3-4 ปีถือเป็นช่วงเวลาที่สั้นมาก และสำหรับความสามารถของจีนนั้นถือว่าใกล้จะถึงจุดนั้นแล้ว

ปัจจุบันอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ของจีนยังตามหลัง ASML ผู้นำจากเนเธอร์แลนด์อยู่มาก โดย SMEE ผู้ผลิตรายใหญ่ของจีนเพิ่งเริ่มทดสอบเครื่องพิมพ์แสงระดับ 28 นาโนเมตร ในขณะที่โลกกำลังมุ่งหน้าสู่เทคโนโลยีระดับ 2 นาโนเมตร ทำให้ผู้เชี่ยวชาญบางส่วนมองว่ามุมมองของ Huang อาจจะเป็นการมองในแง่ดีเกินไป

อุปสรรคสำคัญคือเทคโนโลยี Extreme Ultraviolet (EUV) ที่จีนยังอยู่ในขั้นเริ่มต้นของการวิจัยแหล่งกำเนิดแสง และยังขาดความเชี่ยวชาญในองค์ประกอบซับซ้อนอื่นๆ เช่น เลนส์ฉายแสงและระบบจัดตำแหน่งที่มีความแม่นยำสูง ซึ่งจำเป็นต้องใช้เวลาในการพัฒนาและทดสอบจริงอีกหลายปี

อย่างไรก็ตาม ด้วยการสนับสนุนมหาศาลจากรัฐบาลจีนเพื่อสร้างความพึ่งพาตนเองทางเทคโนโลยี และการแข่งขันในสมรภูมิ AI ที่ทวีความรุนแรงขึ้น Huang จึงเชื่อว่าการที่จีนจะก้าวข้ามขีดจำกัดด้านการผลิตชิปเป็นเพียงเรื่องของเวลาเท่านั้น ซึ่งจะส่งผลต่อความสมดุลของอำนาจทางเทคโนโลยีในอนาคต